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雷(lei)达料(liao)位(wei)计(ji)运(yun)用先进(jin)的雷达(da)测量技术，优选音叉物位计以其(qi)优良(liang)的性能，尤其是(shi)在(zai)槽(cao)罐(guan)中(zhong)有(you)搅拌、温(wen)度高、蒸汽大、介(jie)质(zhi)腐蚀性强、易(yi)结疤(ba)等恶(e)劣的测(ce)量(liang)条件下(xia)，显示(shi)出其卓越的(de)性(xing)能，优选(xuan)音(yin)叉(cha)物(wu)位计在工(gong)业(ye)生(sheng)产中发(fa)挥着(zhe)越来(lai)越(yue)重(zhong)要(yao)的作用。

在测量物料料位时(shi)，射频(pin)信(xin)号经滤(lv)波(bo)电路将干(gan)扰(rao)成分滤掉，测量的的信号(hao)包含(han)物位信息(xi)和挂(gua)料信息，经过(guo)有效屏蔽(bi)层(ceng)处理屏(ping)蔽了(le)干扰信号，获(huo)得纯净(jing)的物位信号，避(bi)免(mian)虚(xu)假(jia)信号。仪(yi)表(biao)生产的中的优(you)选音叉物位计屏蔽电(dian)路能(neng)够(gou)阻止(zhi)射(she)频电流通过挂料形成回(hui)路(lu)，由(you)挂料产生的影响能够被识别，并且(qie)通过电桥(qiao)的移相(xiang)处理从总(zong)的输(shu)出(chu)中消除(chu)，从(cong)而避免了检(jian)测探头(tou)端(duan)挂料对测量准(zhun)确(que)性的影响(xiang)。优选音叉物位计具(ju)有独(du)特(te)的电路设计和传感器(qi)结构，使(shi)其检测可(ke)以(yi)不受传感器探头挂料的影(ying)响，不(bu)需要定期清(qing)理，避免出现(xian)误(wu)测量和(he)假信号。

调(diao)频连续波雷达物位计在测量过程(cheng)中应用了按照线性变化的高频信号，优选音叉物位计的信号从天(tian)线发出，在被测量平面反射，回波被(bei)天线接收(shou)优选音叉物位计信号的发出与(yu)回波接收的频率(lv)差被用于(yu)进一步(bu)的信号处(chu)理，频率差对应(ying)于测量距离。一个大的频率差(cha)应对(dui)于一个较大(da)的测量距离。通过FFT频率差被转化为(wei)频谱差，进而(er)换算出测量距离。物位与测量距(ju)离的差别(bie)取决于空(kong)罐的高度。

物料自然堆积会产生堆(dui)积倾斜，所以固(gu)体物料的料面是不平(ping)整(zheng)的，很(hen)难(nan)明确料位的准确高度(du)；物料进出时，存(cun)在滞(zhi)留区，影响料位低(di)位置点的测量。优选音叉物位计料斗或储(chu)仓(cang)中，固体物料内(nei)部(bu)易存在大的孔隙，形成拱桥。粉(fen)料内部易存在小(xiao)的间隙(xi)。前者影响对物料储量的计算(suan)，而后(hou)者则在振(zhen)动或温度、压(ya)力变化(hua)时使物位也(ye)随之变(bian)化。优选音叉物位计界面(mian)测量中常出现的问(wen)题是界面不明确，浑浊(zhuo)或(huo)泡沫的存在会(hui)影响测量结果(guo)。此(ci)外(wai)，容器内搅(jiao)拌、管道(dao)和加热等(deng)设备的存在也会对物位检测带来一(yi)定的影响，特别是像(xiang)雷达波、超声(sheng)波这些依(yi)赖(lai)回波信号测量的物位仪表。

射频导(dao)纳料位计测量物料技术(shu)是经过改良的新(xin)型(xing)料位测量技术，是从电容(rong)式物位控制(zhi)技术发展起来的，主要应用(yong)了射频信号。优选音叉物位计射频导纳料位计是利(li)用高(gao)频无线(xian)电波测量导纳，当(dang)仪表开(kai)始(shi)工作(zuo)时，仪表内的传感器与罐壁及(ji)被测介质形成导纳值，管(guan)道内的物料物位出现变化，优选音叉物位计中心探杆接(jie)触到物料时，导纳(na)值随(sui)着料位的高低相应变化，电路单元(yuan)（变送(song)装(zhuang)置）将(jiang)测量导纳值(zhi)转(zhuan)换成物位信号输出，实(shi)现物位测量。

由于不同的工业生产过程的特点(dian)不同(tong)，优选音叉物位计需(xu)针(zhen)对不同的工艺(yi)条(tiao)件(jian)来确定。优选音叉物位计为了能够更明(ming)确地分(fen)析物位仪表,料位仪表的工作原理、特点和应用环(huan)境(jing)，必须对物位测量的工艺要求(qiu)进行(xing)明确分析。